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點狀聚焦加熱-紅外線氣氛煅燒試驗爐

日期:2023-11-16 14:33

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紅外線氣氛煅燒試驗爐是一種用于在特定氣氛環(huán)境下進行高溫加熱和煅燒實驗的裝置,廣泛應用于材料科學和工程領域,用于研究材料的熱性質、相變行為、晶體生長等,包括陶瓷材料的煅燒和燒結、金屬粉末冶金、納米材料的制備、電子元件制造、燃料電池研究等。

試驗爐利用紅外輻射加熱原理,通過紅外加熱器產生的紅外輻射熱能來加熱樣品。這些加熱器通常采用特定波長的紅外輻射源,并配有水冷型反射罩(聚焦反射),以高效地將熱能傳遞給樣品。

線性聚焦加熱燈氣氛.png

朗普技術方案

LONGPRO紅外線氣氛煅燒試驗爐通常能夠達到較高的溫度,在數百攝氏度到甚至數千攝氏度的范圍內進行實驗。試驗爐具有氣氛控制系統,可以調節(jié)爐內的氣氛,包括氣體組成和氣體流速。這對于在不同氣氛下進行煅燒實驗非常重要,因為某些材料在特定氣氛下表現出不同的性質。其中包括各類氣體(例如氮氣、氫氣、氧氣等)和氣氛壓力的調節(jié)。不同的氣氛條件可以影響樣品的性質和煅燒結果。這使其適用于煅燒陶瓷、粉末冶金、材料研究等領域。

實驗室紅外線氣氛煅燒試驗爐.jpg

主要技術參數

1.最高溫度:1500℃

2.長期使用溫度:1400℃

3.控溫精度:±1℃

4.加熱功率:6.2kw

5.爐管尺寸:Φ50×440mm ?

6.有效加熱長度:180mm

7.最快升溫速度:200℃-1000℃/min(速度可任意調整,)

8.工作氣氛:空氣、氮氣可任意切換

9.循環(huán)冷卻水:制冷式冷卻循環(huán)水(冷循環(huán)機可選配)


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